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納米二氧化硅研磨分散機

簡要描述:納米二氧化硅研磨分散機,SGN研磨分散機*的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-15
  • 訪  問  量:1240
詳情介紹

納米二氧化硅研磨分散機,納米二氧化硅分散機,納米研磨分散機,納米分散機,二氧化硅分散機,德國納米分散機,納米高速分散機

納米二氧化硅分散在多個領(lǐng)域都有著重要的應用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。SGN研磨分散機*的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。

           
對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN研磨分散機進行分散處理,*。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

 

納米研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

 

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
                

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。


納米二氧化硅研磨分散機的特點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SGN納米研磨分散機設(shè)備選型表:

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。


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