簡(jiǎn)要描述:創(chuàng)新型納米膠體磨,上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn),在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進(jìn)成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進(jìn)型的納米膠體磨。
一、產(chǎn)品名稱:創(chuàng)新型納米膠體磨,創(chuàng)新納米膠體磨,改進(jìn)型納米膠體磨,改良型納米膠體磨,研磨分散膠體磨,納米研磨分散機(jī)
二、創(chuàng)新型納米膠體磨簡(jiǎn)介
上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn),在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進(jìn)成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進(jìn)型的納米膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
,這種*的設(shè)計(jì),放眼世界,獨(dú)上海SGN一家,更多關(guān)于創(chuàng)新型膠體磨的信息,請(qǐng)接洽上思峻,劉!
三、結(jié)構(gòu)
創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散機(jī),簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講,原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成,性價(jià)比更高。
GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
四、GMD2000系列納米創(chuàng)新型膠體磨特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
,研磨分散機(jī),研磨均質(zhì)機(jī),研磨乳化機(jī),全新的設(shè)計(jì)理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行,SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)!